MF power 를 이용한 plasma system의 표면처리 기술로 Plasma 처리 설계 기술 및 최적 조건으로 기술적 한계 극복하였습니다. 또한 Sputtering 기술과 PECVD 기술을 이용한 대면적 산화물 코팅 기술 확보를 했으며, PE CVD 로 SiO2 막을 형성하여 동종업체보다 기술 우위 확보했습니다.

In-line Sputter에서 개발한 PECVD 기술을 roll to roll 방식으로 flexible film에 적용하여 다양한 제품 확보와 해외 유수의 경쟁사대비 기술 우위 확보하고 있습니다.

당사만의 고유 기술을 이용한 기능성 제품 개발 제작, 고품질의 전기 전자 재료기술 동반 확보와 Smart window용 및 OLED, 전자소재 저 저항 ITO 투명전극 등 다양한 기술력을 가지고 세계시장으로 진출하고 있습니다.